Японский рентгеновский флуоресцентный спектрометр с дисперсией длин волн ZSX Primus III +

Наука в Япониирентгеновский флуоресцентный спектрометр с дисперсией длин волнВысокопроизводительный WDXRF для быстрого количественного анализа элементов!

ZSX Primus III+

Технология ZSX Primus III + обеспечивает быстрое количественное определение основных и вторичных атомных элементов, от кислорода (O) до урана (U) с минимальным стандартом широкого спектра образцов.

высоконадежная оптическая система с верхним облучением

ZSX Primus III + имеет новую оптическую конфигурацию с верхним облучением. Пользователям больше не нужно беспокоиться о загрязнении пути или времени остановки из - за технического обслуживания камеры проб. Геометрия верхних лучей устраняет опасения по поводу очистки и увеличивает время.

Высокоточное позиционирование образцов

Высокоточное позиционирование образца обеспечивает постоянное расстояние между поверхностью образца и насосной трубкой X. Это важно для применения, требующего высокой точности, например, для анализа сплавов. ZSX Primus III + использует уникальную оптическую конфигурацию для проведения высокоточного анализа, чтобы уменьшить количество ошибок, вызванных неровными поверхностями в образцах, таких как электробат и пресс.

Программное обеспечение для базовых параметров SQX и сканирования EZ

Используя программное обеспечение EZ - сканирования, пользователи могут анализировать образцы местоположения без предварительной настройки. Эта функция экономии времени требует только нажатия мыши и ввода имени образца. В сочетании с программным обеспечением SQX Basic Paymerators для быстрого получения наиболее точных результатов XRF. SQX автоматически корректирует все матричные эффекты, включая перекрытие линий. SQX также может дополнять эффект возбуждения фотоэлектронами (легкими, сверхлегкими элементами), изменяющейся средой, примесями и различными размерами образцов. Повышение точности с помощью библиотеки соответствий и идеальной программы сканирования и анализа.

Features

Анализ элементов от O до U

Оптическая минимизация загрязнения

Небольшая площадь экономит лабораторное пространство

Высокоточное позиционирование образцов

Специальная оптика уменьшает ошибки из - за искривленной поверхности образца

Программные средства для управления статистическими процессами (SPC)

Оптимизация скорости вакуумной утечки и увеличение пропускной способности